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用于存储器和计算的光子互连平台
申请中
IPC: -
摘要: 一种封装包括在PIC的顶部与PIC耦合的电子IC(EIC)。EIC具有热控制器、信号接口和设备接口。PIC具有光子器件和器件加热器。器件加热器位于距光子器件3, 000 nm内。PIC从PIC的底部接收加热器功率。EIC中的热控制器接收光子器件的温度信息并控制施加到器件加热器的加热器功率。...
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用于测量血液凝固的系统和方法
申请中
IPC: -
摘要: 在一个实施例中，一种用于测量血液凝固的装置包括 : 具有表面的基板；设置在基板的表面上的光波导，该波导具有尖端；以及用于将物体与波导的尖端在空间上分离的装置。...
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具有芯片上势垒电压产生的CMOS成像器
申请中
IPC: -
摘要: 本发明提供了一种成像系统，其包括具有多行像素R的MOS像素阵列。 所述阵列的每个像素包括光检测元件， 复位节点，连接到光检测元件，用于控制由光检测元件产生的光生电荷的耗散；以及感测节点，连接到光检测元件，用于测量由光检测元件产生的光生电荷。 提供了一种电荷控制电压产生电路，其具有用于根据相应的像素传递函数产生多个电荷控制电压的拓扑结构，所述多个电荷控制电压被选择以控制由光检测元件产生的光生电荷的耗散。 开关电路连接到电压产生电路和像素阵列，以将由电荷控制电压产生电路产生的电压施加到像素的复位节点。 开关电路向一行像素复位节点施加每个充电控制电压的特征在于电压施加建立时间ts小于约1/nRF，其...
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核酸定量图谱的方法
申请中
IPC: -
摘要: 本发明涉及一种用于建立一组靶核酸分子的定量景观的方法。 所述方法包括进行多个杂交反应，用于定量所述靶核酸分子组中的每个靶核酸分子，以产生多个定量信号； 生成两个定量信号之间的比率； 以及巩固所述比率以构建所述靶核酸分子组的定量景观。 根据本发明的方法能够分析多个靶核酸分子，从而为各种具有高灵敏度和宽动态范围的应用提供大数据标准化手段。...
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减少光耦合器中位移电流的禁用效应的光检测器方法
申请中
IPC: -
摘要: 本发明公开了几种方法，通过这些方法可以从来自用于光耦合器的硅检测器的光信号中排除由电容相关的位移电流引起的瞬态噪声。 排除这种噪声允许高程度的检测器灵敏度，这允许将低效率硅基LED用于光耦合器应用。...
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用于MRI成像的对肝癌具有高特异性的胰高血糖素-3-纳米探针
申请中
IPC: -
摘要: 一种以抗甘氨酸-3抗体为靶向剂、磁性纳米粒子为显像剂标记和检测肝癌细胞的方法。...
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用于硅蚀刻应用的高压无晶片自动清洗
申请中
IPC: -
摘要: 提供了一种用于清洁处理室的方法。 所述方法以将含氟气体混合物引入处理室开始。 然后，在处理室中由含氟气体混合物产生等离子体。 接着，建立与阈值离子能量相对应的室压力，在该阈值离子能量中，等离子体的离子清洁处理室的内表面而不留下残留物。 本发明还提供了一种用于基本消除由半导体处理室的原位清洗工艺沉积的残余氟化铝颗粒的方法和用于执行原位清洗工艺的等离子体处理系统。...
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混合应变感测系统
申请中
IPC: -
摘要: 一种混合应变感测系统和制造这种系统的方法提供了其上集成沉积有应变传感器和信号处理电路的薄半导体膜。 可以进一步处理半导体膜，然后将其安装到衬底上以用于应变、力或其他相关测量。 该系统将半导体应变仪的高灵敏度与半导体集成电路(IC)的高集成度相结合。 对于小型化和/或柔性是重要要求的应用来说，这两者都是高度期望的特征。...
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Z轴角速率MEMS传感器
申请中
IPC: -
摘要: 描述了一种振荡速率传感器，用于感测绕“Z轴”的旋转。 它本质上是音叉，具有结构连杆机构和动力学，从而通过机械连杆机构实现两个验证质量块的基本反相振荡。...
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片上热能微燃烧装置
申请中
IPC: -
摘要: 一种微燃烧器，包括微热板和用于在微尺度上持续燃烧的催化剂。 微热板具有非常低的热容量和导热率，这减轻了由典型的微域的大表面积-体积比引起的大的热损失。 加热的催化剂使火焰点燃和稳定，允许与稀薄燃料/空气混合物燃烧，延长烃的可燃性极限，并降低燃烧温度。 所述降低的工作温度使得微燃烧器的寿命更长，并且所述降低的燃料消耗使得燃料供应更少，这两者对于便携式微系统应用都是特别重要的。 微燃烧器可用于片上热管理和传感器应用，例如加热微气相色谱柱和用作微火焰离子化检测器。...
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在阀金属中产生锥形高纵横比孔
申请中
IPC: -
摘要: 一种在任意功能材料中制造高纵横比纳米结构的方法。衬底材料的第(N+1)层沉积在现有的N层纳米结构的顶部，其中N是自然数。然后图案化并蚀刻第(N+1)层中的衬底材料，以在衬底材料中产生互补纳米结构。此外，在互补纳米结构上执行间隙填充材料、封装层和功能材料的保形涂覆，以在第(N+1)层中产生功能材料纳米结构。然后在衬底材料上进行一组选择性蚀刻，在功能材料中留下多层高纵横比纳米结构。...
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用于电化学蚀刻的工具和工艺
申请中
IPC: -
摘要: 一种在任意功能材料中制造高纵横比纳米结构的方法。衬底材料的第(N+1)层沉积在现有的N层纳米结构的顶部，其中N是自然数。然后图案化并蚀刻第(N+1)层中的衬底材料，以在衬底材料中产生互补纳米结构。此外，在互补纳米结构上执行间隙填充材料、封装层和功能材料的保形涂覆，以在第(N+1)层中产生功能材料纳米结构。然后在衬底材料上进行一组选择性蚀刻，在功能材料中留下多层高纵横比纳米结构。...
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原位过程监测与控制系统
申请中
IPC: -
摘要: 一种在任意功能材料中制造高纵横比纳米结构的方法。衬底材料的第(N+1)层沉积在现有的N层纳米结构的顶部，其中N是自然数。然后图案化并蚀刻第(N+1)层中的衬底材料，以在衬底材料中产生互补纳米结构。此外，在互补纳米结构上执行间隙填充材料、封装层和功能材料的保形涂覆，以在第(N+1)层中产生功能材料纳米结构。然后在衬底材料上进行一组选择性蚀刻，在功能材料中留下多层高纵横比纳米结构。...
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用于电化学蚀刻的工具和工艺
申请中
IPC: -
摘要: 一种在任意功能材料中制造高纵横比纳米结构的方法。衬底材料的第(N+1)层沉积在现有的N层纳米结构的顶部，其中N是自然数。然后图案化并蚀刻第(N+1)层中的衬底材料，以在衬底材料中产生互补纳米结构。此外，在互补纳米结构上执行间隙填充材料、封装层和功能材料的保形涂覆，以在第(N+1)层中产生功能材料纳米结构。然后在衬底材料上进行一组选择性蚀刻，在功能材料中留下多层高纵横比纳米结构。...
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多晶硅的金属辅助化学蚀刻
申请中
IPC: -
摘要: 一种在任意功能材料中制造高纵横比纳米结构的方法。衬底材料的第(N+1)层沉积在现有的N层纳米结构的顶部，其中N是自然数。然后图案化并蚀刻第(N+1)层中的衬底材料，以在衬底材料中产生互补纳米结构。此外，在互补纳米结构上执行间隙填充材料、封装层和功能材料的保形涂覆，以在第(N+1)层中产生功能材料纳米结构。然后在衬底材料上进行一组选择性蚀刻，在功能材料中留下多层高纵横比纳米结构。...
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用于多光谱诊断医学成像的堆叠三层平板X射线成像器的理论和Monte Carlo优化
申请中
IPC: -
摘要: 本发明涉及一种用于平板X射线成像检测器的方法和装置。 在一个实施例中，该装置包括三(3)层，包括顶层，中间层和底层。 顶层产生顶层图像； 中间层生成中间层图像； 以及底层产生底层图像。 中间层还同时用作中间X射线能量过滤器。...
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具有可修改的物理不可克隆功能的设备
申请中
IPC: -
摘要: 一种设备可以包括物理不可克隆功能(PUF)源，该PUF源具有嵌入在设备中的至少一个熔丝。 PUF源可以响应于输入，用于通过熔丝发送信号并基于这种信号的测量提供PUF值。 所述装置还具有电路，所述电路被配置为通过传送足够大的电流或电压的信号通过所述熔丝来改变其电阻，从而改变所述PUF源对所述输入的响应，从而修改所述熔丝。...
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具有集成压力传感器的微阀及相关方法
申请中
IPC: -
摘要: 用于传感器检测的装置、方法和系统可以包括(i)隐藏式光传感器，其包括壳体和被定位成检测光的环境光传感器，(ii)多个微阀，其中每个微阀包括基底、穿过基底的流体通道、被配置成打开和关闭穿过流体通道的流体路径的阀元件、以及压阻材料，(iii)微处理器，其被配置成调整从输出信号计算的电池的充电电压，以及(iv)射频收发器，其被配置为控制天线调谐器以基于从手表主体中的一组传感器和表带中的一组传感器检测到的输入来改变至少一个天线的一个或多个指定操作参数。...
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用于隐藏式光学传感器的装置、系统和方法
申请中
IPC: -
摘要: 用于传感器检测的装置、方法和系统可以包括(i)隐藏式光传感器，其包括壳体和被定位成检测光的环境光传感器，(ii)多个微阀，其中每个微阀包括基底、穿过基底的流体通道、被配置成打开和关闭穿过流体通道的流体路径的阀元件、以及压阻材料，(iii)微处理器，其被配置成调整从输出信号计算的电池的充电电压，以及(iv)射频收发器，其被配置为控制天线调谐器以基于从手表主体中的一组传感器和表带中的一组传感器检测到的输入来改变至少一个天线的一个或多个指定操作参数。...
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用于恶劣环境应用的集成原位传感器
申请中
IPC: -
摘要: 根据本发明实施例的系统和方法实现能够在严格环境中操作的集成环境传感器。 在一个实施例中，集成环境传感器包括 : 至少一个传感器和衬底； 其中 : 所述至少一个传感器设置在所述基板上； 所述至少一个传感器可以检测至少两个环境属性，包括 : 环境温度； 周围的压力； 周围流体的流速； 和周围的组成； 所述至少一个传感器能够在以下环境中进行检测 : 温度大于150°C； 大于100巴的压力； 和/或包含液态烃、H2S、CO2和硫物种中的一种； 并且所述衬底能够耐受以以下至少之一为特征的环境 : 大于150°C的温度； 大于100巴的压力； 和/或包含液态烃、H2S、CO2和硫物种中的一种。...
